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光刻胶厚度检测,光刻胶厚度测试

作者:百检网 时间:2021-10-09 来源:互联网

服务详情

光刻胶厚度检测,光刻胶厚度测试



我们测量什么?

材料要求:

全都是至少有部分透明的薄膜, 加上所有的半导体 (透明或不透明)。薄膜在外观上至少要有某种程度的光泽。

厚度范围

我们能测量从 3nm 到500um 的厚度。能够测量 70nm 到10um 厚薄膜的折射率。

可测量的层数

我们通常能够测量某个薄膜堆内的*多三层独立薄膜。 在某些情况下,我们能够测量到几十层。

基板材料

如果薄膜位于粗糙基板 (其中包括大多数金属) 上的话, 一般不能测量薄膜的折射率。 此外,粗糙基板还将*低的可测量薄膜厚度限制为大50nm。

所需的信息

我们必须知道目前存在所有薄膜的种类、特征和预估厚度, 

 

以上要求和标准仅供参考,具体测量建议来电和我们专业工程师直接交流。




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