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IEC 62047-14-2012 半导体装置.微电机装置.第14部分:金属薄膜材料的成型极限测量方法

作者:百检网 时间:2021-08-04

标准号:IEC 62047-14-2012
中文标准名称:半导体装置.微电机装置.第14部分:金属薄膜材料的成型*限测量方法
英文标准名称:Semiconductor devices - Microelectromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
标准类型:L40
发布日期:1999/12/31 12:00:00
实施日期:1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号:L40
国际标准分类号:31.080.01;31.080.99;31.220.01

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