GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
作者：百检网 时间：2021-08-05
中文标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
英文标准名称：Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准类型：L90
发布日期：2013/11/12 12:00:00
实施日期：2014/4/15 12:00:00
中国标准分类号：L90
国际标准分类号：31.030
引用标准：GB/T 16878-1997;SJ/T 10584-1994
适用范围：本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
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