作者:百检网 时间:2021-11-11 来源:互联网
可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。 蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In等 *限真空:2E-7 Torr( 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ) 薄膜均匀性:±4% ( 4英寸 ) 装片:小于4英寸的任意规格的样品若干 样品台:带连续旋转,转速 0-20 rpm。在位倾斜角度 -45 - 45 可调
在高真空下,采用电阻式蒸发原理,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备
蒸镀金属薄膜
900
每小时600元 60/10nm贵金属
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