设备能够满足可以观察直径为0～200mm(8〞wafer)的试样。
放大倍率：×5～×300.000
设备能够满足可以观察直径为0～200mm(8〞wafer)的试样。
放大倍率：×5～×300.000
设备能够满足可以观察直径为0～200mm(8〞wafer)的试样。
放大倍率：×5～×300.000
2. 服务项目
1.金属、陶瓷、矿物、水泥、半导体、纸张、塑料、食品、农作物等材料的显微形貌、晶体结构和相组织的观察与分析。
2. 各种材料微区化学成分的定性和定量检测;金属材料牌号的确定。
3. 机械零部件、电子元器件失效分析。
4. 粉末、微粒纳米样品形态和粒度的测定。
5. 复合材料界面特性的研究。
6. 表面微量污染物、异物及其来源分析。
7. 表面镀层成分、镀层厚度与结构分析。
3. 送样需知
不导电样品需做喷金/碳处理
样品高度不大于25mm，直径不大于50mm。
4. 分析数据注意点
分辨率高，放大倍数范围广，可以从几倍到几十万倍，连续可调，便于寻找缺陷并建立微观形貌和宏观形貌之间的联系;景深大，有很强的立体感，适于观察像断口那样粗糙的表面;加配能谱仪和波谱仪后，可同时进行成分分析。
5. 应用领域及分析案例
(2)锂电池石墨电*截面观察(离子研磨CP-扫描电镜SEM)
(3)锂电池石墨颗粒离子研磨CP-扫描电镜SEM平面抛
(4)线路板截面抛光离子研磨CP-扫描电镜SEM
金鉴实验室氩离子切片抛光/CP截面抛光应用示例
PCB线路板切片分析 离子研磨
(5)芯片N*截面抛光离子研磨CP-扫描电镜SEM
(6)支架镀层二焊点截面抛光
END
免责声明：本文仅作为个人学习笔记使用，并不提供商业用途，若有相关信息侵权，请私信联系，必**时间删除或整改!
作者：金鉴实验室邵工 152 0173 3840
链接：氩离子抛光/CP截面抛光切割制作SEM样品- 材料和性能检测-金鉴实验室
来源：知乎
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