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无掩模曝光机

作者:百检网 时间:2021-11-11 来源:互联网

  • 详细信息

    主要技术指标:

    ⑴曝光图形要求:   1.无需光刻掩模,通过电脑输入图形,获得所需曝光图形光。   2.适合特征尺寸为1微米以下至0.5微纳的图形光刻,   3.曝光速度调节灵活,在选择大图形特征尺寸曝光时,可调节光路进行快速曝光。   4.适合厚胶光刻工艺,焦深要求7~25um, ⑵曝光光学系统要求:   5.标准带通配置    •>510nm用于对准和基板检查    • 435nm+/- 5nm    • 365nm +/- 5nm    •宽谱曝光模式   6.拼接灰度255级   7.CCD相机Camera ⑶集成软件功能:   8.自动聚焦功能   9.场校准光学系统/平台   10.自动对准套刻功能   11.用户自定义软件修改 ⑷平台:   12.高精度线性驱动平台   13.X和Y方向运动要求    • 总行程100 mm    • 运动精度+/- 200 nm per axis    • 重复性 +/- 50 nm per axis   14.Z方向运动要求    •总的运动行程25 mm    • 运动精度+/- 200 nm    • 重复性+/- 75 nm   15.Theta方向运动平台    • 总行程360 degrees    • 精度+/-5 arc sec    • 重复性+/-2 arc se ⑸设备环境要求:   16.适合1000级及更洁净恒温恒湿黄光室使用 17.+/- 20C 室温控制范围,30-50%相对湿度范围

    主要功能:

    用于硅片、光学玻璃等表面光刻胶图形曝光,制作微纳米级图形。

  • 服务信息

    服务内容:

    用于硅片、光学玻璃等表面光刻胶图形曝光,制作微纳米级图形

    收费标准:

    5000

    用户须知:

    在不影响科研的情况下对外开放

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    7、拥有CMA、CNAS、CAL等权威资质;

    8、检测报告权威有效、中国通用;

    客户案例展示

    • 上海朗波王服饰有限公司
    • 浙江圣达生物药业股份有限公司
    • 天津市长庆电子科技有限公司
    • 桑德斯微电子器件(南京)有限公司
    • 上海嘉叠贸易有限公司
    • 上海纽特丝纺织品有限公司
    • 无锡露米娅纺织有限公司
    • 东方电气风电(凉山)有限公司
    • 宁波图米文具用品有限公司
    • 江苏力之创特种装备制造有限公司

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