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磁控溅射镀膜机

作者:百检网 时间:2021-11-11 来源:互联网

  • 详细信息

    主要技术指标:

    溅射室:采用SUS304不锈钢,大小为ID550 x H600mm,结构为直立圆筒形,备有前后开门和一套法兰接口,表面喷沙处理,溅射室外缠Φ8mm水冷管供冷却用,真空室内设防护板。系统泄漏率小于1.3 x 10-10 pa.1/s,真空度可达5 x 10-5pa. 样品台:样品尺寸*大为Φ4英寸,可固定各种不规则的样品。样品采用石英灯加热,*高温度可达到800度,石英灯后部备有水冷机构,样品自传由马达驱动,速度在0.825~25rpm范围内可调,样品台可在360度范围内手动公转,来调整样品与3个靶的位置关系,附有位置显示,样品台有自动挡板。 靶:在溅射室地面法兰上安装三个Φ4英寸水冷永磁靶,永磁靶RF、DC兼容,靶材有挡板并在各个靶之间设有隔离板以防止相互污染。靶与样品之间的距离在100~300mm范围内可连续手调,附有位移显示,距离调整需在大气状态下并需同时调整挡板位置。 电源:配有一套频率为13.56MHz功率1000W的射频电源,带自动匹配控制器,匹配器上有3个输出接口通过手动切换分别供三个永磁靶使用。将来可增射频或直流电源。 气路:采用三台气体质量流量计来分别控制氩气、氮气和氧气,氩气*大流量为100SCCM,氮气和氧气*大流量为50SCCM,另外配有一套氮气泄漏气路,各气路分别配有截止阀,气路均采用不锈钢管路及附件组成。 真空获得及能量 (1)泵抽系统:采用磁悬浮式分子泵和机械泵,分子泵抽速为1080L/S,机械泵抽速为537L/M,在真空室和分子泵之间装有可调节流量的阀门,阀门采用马达控制。机械泵与真空室和分子泵之间有截止阀、并采用不锈钢管和波纹管等连接。 (2)真空测量系统:备有一台进口的数显复合真空计,可测范围为105~10-7Pa,另配有一台工作用的薄膜电容式真空计,可测范围为11~1 x 10-3pa,两者有一台显示器切换表示,另外还有一个大气压传感器。 电控系统:由PLC、10英寸触摸屏、加热电源、射频电源、电机和泵阀控制电源、接触器、电缆等组成并安装在控制电柜和台架内,整机采用手动自动联合控制。 附件:台架由型钢焊接而成并可指定颜色喷塑处理,主机安装在台架上,台架内装有水路、气路和电路,并配备各种规格的垫圈、螺钉和螺母等。

    主要功能:

    可进行有高真空要求的金属、石英类镀膜。

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