硅单晶检测
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硅单晶片是半导体的主要基片材料之一。硅单晶在生产过程中由于晶体生长可能出现晶体内缺陷，也可由于制备过程中留下的机械损伤以及污染导致半导体成品率的降低。为获得表面光洁、平整的硅片,提高半导体成品率,对硅片必需进行研磨和抛光。研磨可使晶片表面达到微米级加工精度,但硅片经研磨后还会有一定的损伤层,需在抛光机中进行抛光。
目前了，硅片抛光均使用二氧化硅抛光液，其它如氧化铬、氧化错、氧化镁及铜离子抛光液已很少使用,这里不作介绍。二氧化硅抛光液一般由50~100nm 的二氧化硅颗粒的溶胶或凝胶和碱性的水溶液的体系组成。为改善硅片表面性能和稳定抛光液的颗粒分散性和悬浮性,还可掺入一些添加剂。抛光液中二氧化硅固体浓度一般在2%~10%。抛光工艺中有的要求粗抛，有的要求精抛，故有粗抛液和精抛液之分。粗抛液颗粒尺寸稍大些,pH 值一般在9.0~9.5;精抛液颗粒尺寸稍小些,pH 值为10.5~11.0。
检测标准
| 序号 | 检测标准 | 检测对象 | 检测项目 | |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法 | 硅单晶 | 少数载流子寿命 | |
| 2 | 太阳能电池用硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法 SEMI PV43-0113 | 硅单晶 | 氧含量 | |
| 3 | 硅片表面金属沾污的测试指南 电感耦合等离子体质谱法 SEMI M85-1114 | 硅单晶 | 表面金属 | |
| 4 | GB/T 12962-2015 硅单晶 | 硅单晶 | 部分参数 | |
| 5 | 硅单晶 | 硅单晶 | 碳含量 | |
| 6 | 硅单晶 | 硅单晶 | 氧含量 | |
| 7 | 硅单晶 | 硅单晶 | 晶体完整性 | |
| 8 | 硅单晶 | 硅单晶 | 直径 | |
| 9 | 硅单晶 | 硅单晶 | 晶向及晶向偏离度 | |
| 10 | 硅单晶 | 硅单晶 | 径向电阻率变化 |
检测报告作用：
1、项目招投标：出具权威的第三方CMA/CNAS资质报告；
2、上线电商平台入驻：质检报告各大电商平台认可；
3、用作销售报告：出具具有法律效应的检测报告，让消费者更放心；
4、论文及科研：提供专业的个性化检测需求；
5、司法服务：提供科学、公正、准确的检测数据；
6、工业问题诊断：验证工业生产环节问题排查和修正；
百检检测流程：
1、电话沟通、确认需求；
2、推荐方案、确认报价；
3、邮寄样品、安排检测；
4、进度跟踪、结果反馈；
5、出具报告、售后服务；
6、如需加急、优先处理；
检测检测特点：
1、检测行业全覆盖，满足不同的检测；
2、实验室全覆盖，就近分配本地化检测；
3、工程师一对一服务，让检测更精准
4、免费初检，初检不收取检测费用
5、自助下单 快递免费上门取样；
6、周期短，费用低，服务周到；
7、拥有CMA、CNAS、CAL等权威资质；
8、检测报告权威有效、中国通用；
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